2023年6月30日，荷兰政府颁布了半导体设备出口管制条例，条例主要针对先进半导体设备，包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。该条例于2023年9月1日正式生效。 尽管荷兰外贸部长表示，此举只是为了国家安全，不针对任何国家。但明眼人一眼就看出这项条例就是针对我国的芯片产业。 要知道荷兰的ASML是全球光刻机龙头，把控着全球82%的光刻机市场，其中EUV光刻机份额达到了100%、浸润式DUV光刻机份额达到了95%。 也就是说，如果一家企业想制造芯片，那必然要使用ASML的光刻机，事实上台积电、三星、英特尔、联电、格芯、中芯国际等都依赖ASML的光刻设备。 因为《瓦森纳协定》导致我国企业无法购买到EUV光刻机，国产芯片止步于7nm。如今浸润式DUV光刻机再遇限制，国产芯片真的面临很大危机。 然而，就在条例生效的当日，ASML突然表示已经拿到了2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可，可以继续向中国企业供货。 这个好消息真的让人措手不及，是荷兰政府临阵倒戈，还是另有图谋？ 我们都知道芯片对当今社会的重要性，它不仅是高新科技的底座，也是拉动经济的一驾马车，它广泛应用于航空航天、汽车制造、工业控制、日常生活中。 我国是芯片需求大国，2022年进口了全球70%的芯片，进口额高达2.8万亿元。但尴尬的是我们缺少核心设备，导致芯片制造能力严重不足。 而仅有我国四川省面积大小的荷兰，却拥有全球实力最强的光刻机企业，真是令人羡慕。 1984年，ASML刚刚成立，公司穷的连一杯咖啡都舍不得喝。 2000年初，光刻机发展陷入瓶颈，尼康耗费巨资始终无法攻克156nm光源技术，而台积电的工程师林本坚提出用水作为介质，利用折射原理获得波长更短的紫外光。 尼康一意孤行，并没有采取该方案。而ASML找到了台积电希望可以合作，共同研发浸润式光刻机。 2003年，ASML和台积电成功研制出世界上第一台浸入式光刻机，技术方面首次超过了尼康；2006年迭代至134nm浸润式系统，具有双工作台。 至此，ASML成功超越尼康，奠定了光刻机霸主地位。 而美国将ASML拉入EUV LLC联盟，将EUV技术授权于ASML则让其进入了崭新的时代。也让ASML彻底垄断了EUV光刻机。 当然作为回报，ASML的EUV光刻机需要购买50%的美国零部件，同时出让部分股权，当然设备出口也需要得到美丽国的同意。 随着美商务部与荷兰外贸部对接后，荷兰政府制定了相关半导体设备出口条例，规定TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统 这里做一下简单的解读。 ASML的浸润式光刻机主要分为1980Di、2000i、2050i、2100i四款，根据型号我们能看出1980Di是初代，2100i为最后升级的产品。 1980Di的分变为38nm，每小时的生产晶圆数量为275片。大部分晶圆制造商构建该产品后主要用于28nm以上芯片的制造。 当然这并不是说它不能制造出先进芯片，多次曝光后就可以制造出7nm芯片。台积电就利用这款设备为华为制造了麒麟990。 但是，多重曝光工艺更复杂，成本更高，良品率更低。 2000i以上的型号，分辨率更高，可以制造出5nm芯片，更适合复杂的工艺。 有网友要问了，5nm不是需要EUV光刻机吗？对，但不完全是！ 我们以台积电为例 台积电的14nm、10nm工艺使用60层光罩，7nm使用80层光罩，5nm使用100层光罩。7nm芯片有12层使用EUV工艺，其余68层依然使用DUV工艺。在5nm节点，EUV工艺扩展至22层，剩余78层使用DUV。 那么你想，台积电现在的7nm、5nm会使用落后的1980Di光刻设备呢？还是使用先进的2100i呢？ 我们可以简单的理解为：1980Di主要用于制造14nm—45nm的芯片，多重曝光后可制造7nm芯片；2000i以上主要用于制造7nm—28nm芯片，多重曝光后可制造5nm芯片。 也就是说，只要ASML卡住2000i以上的产品不出口给中国企业，那么我们的芯片就只能止步于7nm。 那么此次继续供货2000i以上型号的浸润式光刻机，是良心发现吗？当然不是！看完这个故事你就会明白了。 1848年，一位名叫马歇尔的木匠，在加州的一条小溪中发现了一块金子，于是他开始在小溪里淘金，并收获了一笔小财富。 然而，消息不胫而走，知道加州有黄金的人越来越多，大家都觉得自己就是那个要发大财的人，于是纷纷加入了淘金大军。 短短4年时间，这个小村庄就由400人发展至4万人，成为了最初的“旧金山”。 的确有不少人挖到了金子，但是他们大部分没有富起来，而是把钱挥霍一空，刺激了旧金山的快速发展。 而真正发达的却是“卖铲子的商人”，因为无论谁来淘金，总要买点装备，而随着装备的升级，价格也越来越贵。 同样，在芯片淘金热中，芯片厂商都要到ASML手中购买“铲子”，随着“铲子”的升级，价格也越来越贵。 实际上，ASML作为卖铲子的，根本不在乎谁会制造出新进的芯片，因为芯片制造商们都要购买ASML的光刻机。 ASML担心的是尼康、佳能、上海微电子这种竞争对手，一旦对手进行技术升级，就有可能威胁到自身的安全，降低自己的盈利预期。 2023年7月，ASML公布了第二季度财报，单季度净赚19亿欧元（约合150亿人民币），同比增长38%，这个业绩离不开内地企业的贡献。 ASML在今年二季度浸润式设备大卖，严重超出预期，而买家大部分为中国客户， 从具体型号来看： 二季度ASML售出EUV光刻机12台，比一季度少5台；售出浸润式DUV光刻机39台，比一季度增长14台。 中国客户大买浸润式DUV光刻机，来自中国大陆的收入占比大幅增长至24%。 总的来说，中国企业为ASML提供了更多的收入和利润，这还是在半导体出口限制情况下产生的。 我想但凡是一个正常的商家，都不会拒绝大客户吧！ 要不是所谓的《瓦森纳协定》限制，要不是美丽国的打压，ASML应该更愿意向中国企业出口先进的光刻机。 因为一旦中国制造商突破7nm工艺，全球芯片就会卷起来，手机SoC、电脑CPU、GPU、自动驾驶芯片将会更快的向5nm、3nm迭代，这对ASML来说绝对是好消息。 所以，继续供货2000i以上的浸润式光刻机，在一定程度上离不开荷兰政府和ASML的努力，当然这个努力是建立在“利益”的前提下。 此次ASML获得的出口许可，延续至2024年1月。国产芯片获得了关键的4个月喘息时机。 不要小看这4个月，国产芯片在4个月时间内可以完成很多事。 1、购买更多的光刻机 既然拿到出口许可，我们就可以购买更多的浸润式DUV光刻机，建立更多的生产线，确保14nm、28nm芯片的供应。 14nm及以上芯片可以满足80%的芯片场景，包括军工、工控、汽车、通讯、家电等领域。 而特殊领域（智能手机、自动驾驶、超算）可以考虑“高成本制造”。比如华为的9000S，市场需求火爆，消费者反应良好。 2、为国产光刻机研发争取时间 可以预料的是，未来国内芯片生产线最终要使用国产光刻机。而目前国产光刻机只能做到90nm，可以生产45nm芯片。 市场一直有传闻称上海微电子已经攻克28nm光刻机，但是迟迟不见官方发布消息。 但是可以知道的是，目前浸润式系统、DUV光源、光学透镜、双工作台等关键技术均已攻克，集成厂商为上海微电子。 相信在年底或明年初，就会迎来国产光刻机发布会。 3、为现存光刻机进行维护 国内芯片厂商已经在ASML购买了几百台光刻机，这些光刻机需要定期维护、升级。 我们可以充分利用这4个月的时间，将现有的DUV光刻机进行维护升级，确保未来一两年内不出现问题。 现有光刻机工作1—2年，新进光刻机工作3年，4至5年后，国产光刻机已经实现量产，并使用在生产线上，实现完美对接。 总的来说，如果我们充分利用好这几个月的时间，可以为国产芯片争取到更为有利的准备方案，让国产芯片能够抵御更强的冲击。 9月1日，荷兰的半导体出口限制生效，但ASML表示仍然可以向国内企业出口2000i及后续推出的浸润式光刻系统，并且公司已经拿到出口许可证。 不要以为这是ASML良心发现，它不过是想拿到更多的收益而已。 未来，国产芯片只能依靠国产设备，所以上海微电子、中科院、清华大学等企业、高校、研发机构还需努力。 我是科技铭程，欢迎共同讨论！
